GL300 MLA是天仁微納新型專門為晶圓級光學加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備，可在200/300 mm基底面積上平行復制生產(chǎn)聚合物光學器件。

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備支持cassette to cassette自動上下片、自動復制柔性復合工作模具，工作模具自動更換。整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行，以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。內(nèi)置的高精度自動點膠系統(tǒng)、APC（主動模具基底平行控制）技術(shù)、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時，自動模具基底對位系統(tǒng)還可實現(xiàn)晶圓之間對位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。主要功能● 全自動200/300mm晶圓級光學加工（WLO）生產(chǎn)線

● APC主動模具基底平行控制技術(shù)，確保大面積晶圓壓印TTV均勻性

● Cassette to cassette自動上下片，光學巡邊預對位

● 設(shè)備內(nèi)自動復制柔性復合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)

● 內(nèi)置高精度自動點膠功能

● 自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中自動進行，以保證壓印質(zhì)量

● 標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料

● 隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括標準示范WLO等工藝流程，幫助客戶零門檻達到國際的納米壓印水平

https://www.chem17.com/st472071/product_38112454.html

http://www.qdgermanlitho.com/Products-38112454.html